埃科光电申请直线拟合专利，提高边缘拟合鲁棒性，抵抗噪声干扰

　　2024年2月28日消息，据国家知识产权局公告，合肥埃科光电科技股份有限公司申请一项名为“一种直线拟合方法、系统、电子设备及存储介质“，公开号CN117611619A，申请日期为2023年12月。

　　专利摘要显示，本发明提出一种直线拟合方法、系统、电子设备及存储介质。该方法包括，获取待测物体的图像；沿水平或竖直方向，提取图像边缘，获取若干边缘点坐标；设置参数接口，筛选参与拟合的边缘点坐标，获取拟合结果及位置信息。本申请旨在通过添加简单的边缘点过滤措施，即设置参数接口，提高边缘拟合鲁棒性，抵抗噪声干扰。本申请中直线拟合方法未采用任何迭代计算，通过控制参数接口，实现不同程度的异常点过滤，既获取参数接口内图像边缘的缺陷判定结果、缺陷位置信息，又可以获取参数接口内正确位置的拟合结果及位置信息；计算简单，计算量小，硬件资源消耗低，适用于FPGA并行运行，处理效率高。