天合光能申请钝化膜专利，能够兼顾场钝化效果和化学钝化效果

　　据国家知识产权局公告，天合光能股份有限公司申请一项名为“钝化膜、钝化膜制备方法和太阳能电池“，公开号CN117790590A，申请日期为2023年12月。

　　专利摘要显示，本申请涉及一种钝化膜、钝化膜制备方法和太阳能电池，钝化膜包括两层钝化层，第一钝化层设置于衬底表面，第二钝化层设置于第一钝化层背离衬底的表面，第一钝化层的场钝化效果优于第二钝化层的场钝化效果，也即靠近衬底的膜层场钝化效果优于最上的场钝化效果，能够阻止类似极性的电荷载流子靠近衬底，极大地减少一种极性的载流子达到表面的数量，显著减小衬底表面的复合损失。第二钝化层的化学钝化效果优于第一钝化效果，钝化膜最外层的上表面膜层化学钝化效果最佳，使原子有足够的时间和能量达到最佳能级，从而使表面悬空键饱和，减少其对其他正负电荷的复合作用，确保钝化膜的钝化效果。也即本申请中钝化膜能够兼顾场钝化效果和化学钝化效果。