来源 :金融界2024-01-11
2024年1月10日消息，据国家知识产权局公告，上海和辉光电股份有限公司申请一项名为“一种空穴阻挡层及包括其的有机电致发光器件“，公开号CN117377340A，申请日期为2023年11月。
专利摘要显示，本发明涉及一种空穴阻挡层，包括：空穴阻挡材料、以及稀释极化材料；其中，所述稀释极化材料为由碳元素和氢元素构成的脂肪族聚合物，所述稀释极化材料具有稀释所述空穴阻挡材料间定向极化效应的能力。本发明的空穴阻挡层中，稀释极化材料能够稀释所述空穴阻挡材料间的定向极化效应，从而显著降低激子-极化子(TPA)淬灭，抵挡空穴阻挡材料的劣化，进而延长有机电致发光器件的寿命。