利元亨取得一种转接机构及镀膜装置盖体专利，实现膜层厚度均匀，提高镀膜质量

　　据国家知识产权局公告，广东利元亨智能装备股份有限公司取得一项名为“一种转接机构及镀膜装置盖体“，授权公告号CN220520609U，申请日期为2023年8月。

　　专利摘要显示，本申请涉及镀膜技术领域，特别涉及一种转接机构及镀膜装置盖体。包括连接组件、设置于所述连接组件一端的压型块，所述压型块的延伸方向与所述连接组件相垂直，所述压型块远离所述连接组件的一端形成有凸起结构。进而通过压型块的凸起结构抵接于电极板上表面，进而使得电极板发生形变而使得其下表面形成曲面，实现削弱镀膜腔中间部分的磁场强度，使得磁场强度均匀，避免传统镀膜工艺中的膜层中间位置膜层厚度大于周边位置膜层厚度的情况发生，使得膜层厚度均匀，提高镀膜质量。