来源 :金融界2023-11-19
据国家知识产权局公告，绍兴中芯集成电路制造股份有限公司取得一项名为“一种隔离器件及其制备方法”，公开号CN117080199A，专利申请日期为2023年11月。
专利摘要显示，本发明提供一种隔离器件及其制备方法，隔离器件的缓冲停止结构层下移至第一介质层和第二介质层之间，并且在缓冲停止结构层处第一导电柱和第二导电柱的直接接触，使得本发明与现有技术相比，舍去了层间金属导电层，简化了隔离器件的结构，降低了工艺时间和成本。