路维光电：已实现180nm及以上制程节点半导体掩膜版量产，积极开展130nm及以下制程节点掩膜版产品的工艺技术开发

　　金融界11月3日消息，路维光电披露投资者关系活动记录表显示，公司已实现180nm及以上制程节点半导体掩膜版量产，同时储备有150nm制程节点掩膜版制造技术和OPC、PSM等应用于中高端半导体掩膜版的制造技术，满足国内功率器件、光电器件、传感器、先进半导体芯片封装等应用场景。此外，公司积极开展130nm及以下制程节点掩膜版产品的工艺技术开发。在半导体领域，公司的主要客户包括国内某些领先芯片公司及其配套供应商晶方科技、华天科技、通富微电、三安光电等。掩膜版属于定制化产品，其价格主要受生产成本、供需关系、产品技术要求等多种因素影响，目前整体来看价格稳中有升。公司的主要生产设备光刻机主要采购自瑞典的Mycronic、德国的海德堡仪器两家公司，目前公司的设备尚未受到境外采购的限制。