奥比中光-UW取得消除屏下杂散光专利，提高深度测量值的准确性

　　金融界2024年3月13日消息，据国家知识产权局公告，奥比中光科技集团股份有限公司取得一项名为“一种消除屏下杂散光的方法、装置、屏下系统和存储介质“，授权公告号CN113238250B，申请日期为2021年4月。

　　专利摘要显示，本申请适用于光学领域，提供了一种消除屏下杂散光的方法、装置、屏下系统和存储介质。其中，该消除屏下杂散光的方法包括：获取位于显示屏内侧的信号接收端接收到的回波信号；所述回波信号为位于所述显示屏内侧的信号发射端向所述显示屏外侧的目标区域发射第一光信号后，所述信号接收端接收到的光信号；获取所述第一光信号经所述显示屏反射和/或散射后所述信号接收端接收到的杂散光信号；基于所述回波信号和所述杂散光信号，计算所述目标区域对所述第一光信号进行反射的目标光信号。本申请的实施例提供的方法能够消除屏下杂散光，以提高深度测量值的准确性。