长阳科技取得新专利，有效减小液晶高分子膜的介电常数和介电损耗值

　　2024年1月11日消息，据国家知识产权局公告，宁波长阳科技股份有限公司取得一项名为“一种空心介孔硅球改性液晶高分子薄膜及其制备方法“，授权公告号CN114106579B，申请日期为2020年8月。

　　专利摘要显示，本发明属于液晶高分子膜技术领域，具体涉及一种改性液晶高分子薄膜及其制备方法和应用。所述改性液晶高分子薄膜，其包含如下组分：液晶高分子、偶联剂、空心介孔硅球、抗氧剂和分散剂。本发明提供的技术方案通过添加适量的空心介孔硅球可以有效减小液晶高分子膜的介电常数和介电损耗值，同时改善薄膜的厚度均匀性。此外，分散剂和偶联剂的加入可以有效促进填料在液晶高分子基体中的均匀分散和界面相互作用，改善成膜性。制备的液晶高分子复合膜具有低的吸湿性、低的介电常数和介电损耗、耐高温、优异的力学性能及良好的厚度均匀性，可应用于高频高速柔性印制线路板的制作。