清溢光电：公司将积极关注佳能公司新型纳米压印半导体制造设备

　　清溢光电在互动平台表示，根据佳能方面最新消息，该公司宣布推出新型纳米压印半导体制造设备，采用了纳米压印技术，可实现最小线宽为14nm的图案化，相当于5nm节点需要，生产目前可用的最先进的逻辑半导体。未来随着半导体纳米压印技术的拓展，对光掩膜版的需求也会随之增加，但是目前关于该技术的资料较少，尚需进一步跟踪了解。公司在2013年开发了应用于传统触控屏掩膜版产品的纳米压印掩膜版工艺，并应用在早期的触控屏掩膜版产品中。对于佳能公司新推出新型纳米压印半导体制造设备，公司将积极关注并跟进其对应的技术要求。