华海清科申请化学机械抛光专利，可实现晶圆在不同单元间高效传输

　　2024年1月19日消息，据国家知识产权局公告，华海清科股份有限公司申请一项名为“一种化学机械抛光系统和抛光方法”，公开号CN117415722A，申请日期为2023年11月。

　　专利摘要显示，本发明公开了一种化学机械抛光系统和抛光方法，所述化学机械抛光系统包括：前置单元；抛光单元，其包括至少一个子抛光单元；清洗单元，用于清洗已抛光晶圆；所述抛光单元与清洗单元之间设置有横向的传输机构，其端部邻接于前置单元，使得晶圆在前置单元与抛光单元、清洗单元与前置单元之间传输；所述子抛光单元包括抛光盘和抛光模组，所述抛光模组配置有至少两个装载晶圆的承载头，以在相邻抛光盘抛光晶圆。