盛美上海：Track设备预计在明年年中有望完成与光刻机的对接工艺测试

　　盛美上海近期投资者关系活动记录表显示，公司Track设备目前在客户端验证进展顺利，预计在明年年中有望完成与光刻机的对接工艺测试；此外，公司也在不断拓展新客户，目前有多家客户在洽谈。明年公司将聚焦KrF设备进入市场，同时公司也将研发浸没式ArF设备。

　　预计明年公司清洗设备收入仍会保持增长，再叠加公司电镀、炉管设备的放量，公司对明年的业绩持乐观态度；到25-26年度，公司PECVD设备、Track设备开始实现销售收入，预计随着这两款设备市场的不断开拓，将再次推动公司业绩高增长。更长期来看，公司业绩增长将得益于海外市场的不断拓展，盛美的远期目标是国内和海外市场各占一半的收入。