2月24日晚间，国内半导体设备巨头盛美上海披露2022年财报。该年度上市公司营收28.73亿元，同比增长77.25%；扣非后净利润6.90亿元，同比增长254.27%。
对于营收增长，盛美上海认为主要原因是受益于国内半导体行业设备需求的不断增加，销售订单持续增长；新客户拓展、新市场开发等方面均取得一定成效；新产品得到客户认可，订单量稳步增长。
而净利润增长，则是公司主营业务收入和毛利增长所致。对比2021年，盛美上海2022年毛利率、扣非后净利率水平均显著提升。2021年毛利率、扣非后净利率分别为42.53%、12.01%；2022年分别为48.90%和24.01%。
两大业务高速增长
按照主营业务分产品情况，盛美上海两大业务保持高速增长。其中，半导体清洗设备营收20.78亿元，同比增长96.85%。其他半导体设备（电镀、立式炉管、无应力抛铜等设备）营业收入为5.18亿元，同比增长89.19%。公司的综合毛利率由2021年的42.53%增加至2022年的48.90%，增长6.37个百分点。
可以看出，两大业务均保持高速增长，且其他半导体设备毛利率增长尤为明显。对于营收变动，上市公司表示系受益于半导体产业市场需求的持续增长以及公司的产品竞争优势。
事实上，盛美上海能够取得如此优异的业绩增速，离不开其持续的创新及产品研发。以其传统优势产品清洗设备为例，其SAPS兆声波清洗技术为国际先进水平，TEBO兆声清洗技术、单晶圆槽式组合Tahoe高温硫酸清洗技术均为国际领先水平。盛美上海在近几年还相继推出了单片背面清洗设备、刷洗设备、边缘湿法刻蚀设备、单片高温硫酸清洗设备、自动槽式清洗设备和大硅片用后CMP清洗设备。
全球半导体清洗设备市场高度集中，尤其在单片清洗设备领域，DNS、TEL、LAM与SEMES四家公司合计市场占有率达到90%以上，其中DNS市场份额最高，市场占有率在35%以上。
而目前，本土12英寸晶圆厂清洗设备主要来自DNS、盛美上海、LAM、TEL。根据中银证券专题报告中的历年累计数据统计显示，盛美上海清洗设备的国内市占率为23%；而Gartner2021年数据显示，盛美上海在全球单片清洗设备的市场份额已升至5.1%。
报告期内，盛美上海在新产品开发上硕果累累，包括ALD（热原子层沉积）立式炉Ultra FnA、涂胶显影Track设备、等离子体增强化学气相沉积PECVD设备、先进封装用金属剥离湿法设备、新型化合物半导体系列湿法设备以及化学机械研磨后（Post-CMP）清洗设备。至此，公司形成“清洗+电镀+先进封装湿法+立式炉管+涂胶显影+PECVD”的六大类业务版图，支撑公司SAM（Serviceable Available Market，可服务市场）翻倍。
未来看点：PECVD+涂胶显影
根据浙商证券研报，半导体设备价值量中，光刻、刻蚀、沉积均为23%，而清洗、氧化、离子、CMP、涂胶显影、量测和先进封装合计31%。
可以看出，与电镀、立式炉管相比，沉积和涂胶显影赛道更大。而盛美上海的未来看点，也正是这两大领域。东吴证券认为，2022年11-12月，盛美上海先后推出涂胶显影、PECVD设备，完善产业布局，使公司产品覆盖的市场规模翻倍以上增长。
在涂胶显影设备方面，盛美上海推出前道涂胶显影Ultra LithTM Track设备，采用公司具有全球专利申请保护的垂直交叉式架构，应用于300毫米前道集成电路制造工艺，可提供均匀的下降层流、高速稳定的机械手以及强大的软件系统，从而满足客户的高产出300WPH及未来400WPH的需求。
该设备支持主流光刻机接口，支持包括i-line、KrF和ArF系统在内的各种光刻工艺。盛美上海称，其中首台ArF涂胶显影设备Ultra LITH已经正式出机，同时将于2023年推出I-line型号设备，并且开始研发KrF型号设备。
根据头豹研究院数据，以销售额计算，2020年i-line、KrF、ArF dry、ArF和EUV光刻机占比分别为3%、11%、5%、40%和41%。
沉积设备方面，盛美上海推出Ultra PmaxTM PECVD设备，该设备配置了自主知识产权的腔体、气体分配装置和卡盘设计，能够提供更好的薄膜均匀性，更小的薄膜应力和更少的颗粒特性，该设备可用于逻辑及存储器件的生产。Ultra PmaxTM PECVD设备的推出，标志着公司在前道半导体应用中进一步扩展到全新的干法工艺领域。
从清洗设备、电镀、先进封装湿法、立式炉管，到PECVD、涂胶显影，盛美上海六大业务版图已然成型。其将有机会成为北方华创之后，国内又一家平台型半导体设备厂商。