盛美上海推出新型热原子层沉积立式炉设备 用于高端半导体生产

　　据盛美上海官微消息，盛美上海宣布，其对300mm Ultra Fn立式炉干法工艺平台进行了功能扩展，研发出新型Ultra Fn A立式炉设备。该设备能满足原子层沉积工艺的同时具备低累积膜厚气体清洗功能，保证颗粒的稳定性。首台Ultra Fn A立式炉设备已于本月底运往国内一家先进的逻辑制造商，并计划于2023年底通过验证。