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拓荆科技(688072)内幕信息消息披露
 
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拓荆科技取得晶圆托盘相关专利,晶圆托盘可定向转移分区间热量

http://www.chaguwang.cn  2026-04-28  拓荆科技内幕信息

来源 :新浪财经2026-04-28

  4月28日消息,国家知识产权局信息显示,拓荆科技股份有限公司申请一项名为“一种晶圆托盘以及晶圆托盘的温度控制方法”的专利,授权公告号CN115799123B,授权公告日为2026年4月24日。申请公布号为CN115799123A,申请号为CN202211634990.5,申请公布日期为2026年4月24日,申请日期为2022年12月19日,发明人谈太德、赵聪、姜崴,专利代理机构上海专利商标事务所有限公司,专利代理师徐迪,分类号H10P72/00、H05B1/02、G05D23/20。

  专利摘要显示,本发明提供了一种晶圆托盘、一种晶圆托盘的温度控制方法以及一种计算机可读存储介质。上述晶圆托盘包括:托盘本体,至少包括位于中心区域的第一分区,以及位于边缘区域的第二分区;多个第一半导体制冷器,垂直托盘本体径向地设置于托盘本体中,并沿第一分区和/或第二分区的边界分布;以及控制器,被配置为:获取第一分区的第一温度及第二分区的第二温度;以及根据第一温度及第二温度的大小,向各第一半导体制冷器提供对应方向和/或对应幅值的驱动电压,以控制各第一半导体制冷器在第一分区及第二分区之间进行对应方向的定向热量转移。

  拓荆科技成立于2010年4月28日,于2022年4月20日在上海证券交易所上市。注册地址与办公地址均位于辽宁省沈阳市。该公司是国内半导体薄膜沉积设备龙头,核心产品涵盖物理气相沉积、化学气相沉积等设备,拥有深厚技术壁垒。

  拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务,所属申万行业为电子-半导体-半导体设备,涉及半导体设备、半导体设备概念、高带宽存储器HBM等概念板块。

  2025年,拓荆科技营业收入达65.19亿元,在17家同行业公司中排名第4,高于行业平均数50.3亿元和中位数14.26亿元,但与第一名北方华创的393.53亿元、第二名中微公司的123.85亿元仍有差距。净利润方面,2025年为9.15亿元,行业排名第6,高于行业平均数7.91亿元和中位数1.77亿元,不过与第一名北方华创的54.09亿元、第二名中微公司的20.64亿元相比也存在差距。

  拓荆科技股份有限公司近期专利情况如下:

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人
1一种高温PECVD系统发明专利实质审查的生效、公布CN202511724511.22025-11-21CN121575382A2026-02-27孙少东、方成、李欣、赵东萱、汤雨竹、宁建平、孟亮、胡祥明、汤剑
2喷淋结构和半导体器件的工艺设备及其工艺方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511688630.72025-11-17CN121531958A2026-02-13请求不公布姓名、许铁柱
3一种气体传输组件和半导体器件的加工设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511642968.92025-11-10CN121204640A2025-12-26请求不公布姓名、许铁柱
4一种半导体工艺设备和工艺腔的清洁方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511643136.92025-11-10CN121460468A2026-02-03请求不公布姓名、许铁柱
5半导体设备中基于累计膜厚的清洁方法和装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511579348.52025-10-30CN121407053A2026-01-27聂坤、请求不公布姓名、李玉、张树全、谢佳辉、李陶陶
6一种喷淋板组件和半导体的工艺设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511263265.52025-09-04CN121137559A2025-12-16孙少东、宁建平、汤雨竹
7一种抽气环及薄膜沉积设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511250533.X2025-09-02CN120796943A2025-10-17汤雨竹、贾闯
8一种抽气环及薄膜沉积设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511250530.62025-09-02CN120796942A2025-10-17汤雨竹、贾闯
9一种喷淋板及薄膜沉积设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511250517.02025-09-02CN121087462A2025-12-09孙少东
10进气结构、半导体工艺的供气系统和处理方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511028247.92025-07-24CN120683478A2025-09-23孙少东、孟亮、卜立夫、孙飞
11半导体反应腔体压力控制方法及计算机可读存储介质发明专利实质审查的生效、公布CN202510783799.42025-06-11CN120595879A2025-09-05董礼、孟亮、张闯闯、李中帅、梁彬彬、李权
12射频带的测试装置、方法及薄膜沉积方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510399216.82025-03-31CN120249885A2025-07-04董礼、孟亮、吴凤丽、张闯闯、李中帅、梁彬彬、李权
13一种卡钳结构、腔体及薄膜沉积设备实用新型授权CN202423201410.02024-12-24CN223548088U2025-11-14蔡东坡、宋宇、高级
14一种臭氧发生器实用新型授权CN202423200903.22024-12-24CN223950738U2026-02-27蔡东坡、宋宇
15一种用于加热盘的清洁系统及其清洁方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411813184.32024-12-10CN119567062A2025-03-07高级、宋宇、王志超
16一种薄膜沉积设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411813436.22024-12-10CN119640207A2025-03-18王志超、高级、宋宇
17重锤顶针的装卸工装,安装方法及其拆卸方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411789735.72024-12-05CN119589604A2025-03-11王松、刘家辉
18一种循环冷却净化装置及双腔三晶舟的晶圆加工设备实用新型授权CN202422822803.72024-11-19CN223390508U2025-09-26姜全昌
19一种晶舟交换机构及双腔三晶舟的晶圆加工设备实用新型授权CN202422822517.02024-11-19CN223390523U2025-09-26姜全昌
20一种工艺腔室顶盖机构及其薄膜沉积设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411621767.62024-11-13CN119392217A2025-02-07王松、费腾
21一种承载盘及应用其的半导体设备实用新型授权CN202422771484.12024-11-13CN223390535U2025-09-26孙少东、吕志鹏、孟亮
22喷淋板及薄膜沉积设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411597775.12024-11-08CN119433509A2025-02-14安光辉、栾婉莹、王卓、费腾
23晶圆旋转机构、半导体器件的工艺设备及其工艺方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411573410.52024-11-05CN119433515A2025-02-14张闯闯、吴凤丽、董礼、王前程、梁彬彬、高鑫洲
24晶圆旋转机构和半导体器件的工艺设备实用新型授权CN202422698141.72024-11-05CN223548092U2025-11-14张闯闯、吴凤丽、董礼、王前程、梁彬彬、高鑫洲
25一种背面沉积的工艺腔室及半导体器件的背面沉积设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411528163.72024-10-30CN119177428A2024-12-24殷奇、谭宇琦
26一种背面沉积的工艺腔室及半导体器件的背面沉积设备实用新型授权CN202422630995.12024-10-30CN223468446U2025-10-24殷奇、谭宇琦
27一种双进气通道气体混合装置及半导体薄膜设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411450313.72024-10-16CN119258822A2025-01-07胡祥明、孙少东
28一种双进气通道气体混合装置及半导体薄膜设备实用新型授权CN202422510382.42024-10-16CN223221294U2025-08-15胡祥明、孙少东
29温度控制方法、半导体加工设备及计算机可读存储介质发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202411441667.52024-10-15CN119322545A2025-01-17董礼、吴凤丽、张闯闯、李中帅、李权、梁彬彬、高鑫洲、王前程
30腔室压力的控制系统、负载锁存腔及加工设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411441662.22024-10-15CN119324168A2025-01-17马硕、李慧、姜宗帅、李宇
31穿腔气路结构及薄膜沉积设备实用新型授权CN202422484816.82024-10-14CN223357748U2025-09-19王松
32一种加热盘机构及其薄膜沉积设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411428059.02024-10-12CN119110447A2024-12-10梁彬彬、吴凤丽、张闯闯、高鑫洲、董礼、张佳琦、王前程
33一种加热盘机构及其薄膜沉积设备实用新型授权CN202422474937.42024-10-12CN223219236U2025-08-12梁彬彬、吴凤丽、张闯闯、高鑫洲、董礼、张佳琦、王前程
34气体输送装置、半导体器件的工艺方法和工艺设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411418900.82024-10-11CN119082708A2024-12-06高级、宋宇、阮大鹏
35气体输送装置和半导体器件的工艺设备实用新型授权CN202422460231.22024-10-11CN223357747U2025-09-19高级、宋宇、阮大鹏
36抽气结构和半导体器件的加工设备发明专利公布CN202411277232.12024-09-11CN118880289A2024-11-01汤雨竹、魏有雯、魏薇
37抽气结构和半导体器件的加工设备实用新型授权CN202422236873.42024-09-11CN223226167U2025-08-15汤雨竹、魏有雯、魏薇
38工艺腔室,以及半导体器件的加工设备及方法发明专利公布CN202411226800.52024-09-02CN121665948A2026-03-13蒋征、叶五毛、许铁柱、李丹
39工艺腔室、半导体器件的加工设备及方法发明专利公布CN202411226810.92024-09-02CN121665949A2026-03-13叶五毛、许铁柱、李丹、蒋征
40固化工艺设备及固化工艺的处理方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411198577.82024-08-29CN119158768A2024-12-20汤雨竹
41一种固化工艺设备实用新型授权CN202422113961.52024-08-29CN223337743U2025-09-16汤雨竹
42一种双腔三晶舟的晶圆加工设备及晶圆加工方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311665879.72023-12-06CN118053790A2024-05-17姜全昌
43一种电加热的喷淋板与半导体工艺设备发明专利实质审查的生效、公布CN202311588368.X2023-11-24CN117604504A2024-02-27申思
44一种设备对接装置、方法和半导体加工设备发明专利实质审查的生效、公布CN202311561686.72023-11-21CN117524954A2024-02-06李旭峰、崔雨、黄明策、张驰
45一种用于加热盘的射频连接器以及射频连接组件发明专利授权、公布CN202311561155.82023-11-21CN117477298B2024-07-16张赛谦
46气体传输系统及半导体镀膜设备实用新型授权CN202323145114.92023-11-21CN221588684U2024-08-23李旭峰、陈新益、崔雨、黄明策、张驰
47一种半导体工艺腔体实用新型授权CN202323145535.12023-11-21CN221708662U2024-09-13张亚梅、宋鹏、张晗
48一种电加热的喷淋板与半导体工艺设备发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202311498545.52023-11-10CN117512566A2024-02-06申思
49一种密封圈测试平台发明专利实质审查的生效、公布CN202311466571.X2023-11-06CN117606787A2024-02-27李旭峰、崔雨、张驰、黄明策
50对中机构、晶圆升降系统及其安装方法、薄膜沉积装置发明专利实质审查的生效、公布CN202311469403.62023-11-03CN117497472A2024-02-02张驰、李旭峰、黄明策、崔雨、陈新益

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