拓荆科技：产能可满足现有生产任务 上海临港基地正在建设中

　　拓荆科技公布调研纪要显示，公司PECVD设备产品在28nm及以上制程逻辑产线基本可以实现各类薄膜工艺的覆盖，14nm先进制程节点主要在验证中。ThermalALD主要应用于28nm以下制程逻辑芯片，正在研发中。目前公司产能能够满足现有生产任务，上海临港基地正在建设中。