成立20周年 芯源微将发布浸没式高产能涂胶显影机新品

　　12月17日，芯源微将迎来成立20周年的重要时刻，筚路蓝缕二十载，风华正茂谱新篇。公司公告，在公司成立二十周年之际，定于12月17日上午10:30召开浸没式高产能涂胶显影机新品发布会。届时，公司将开通在线交流环节，与广大投资者积极互动。

　　公司表示，本次发布的产品为公司最新的前道浸没式高产能涂胶显影机。该机型采用公司独创的对称分布高产能架构，满配36 Spin处理单元，搭载公司自主研发的双向同步取放机械手，可大幅提升整机的机械传送产能和传送精度，能够匹配全球主流光刻机联机生产。该款机型通过选配可全面覆盖I-line、KrF、ArF dry、ArF浸没式等多种光刻技术，也适用包括SOC、SOH、SOD等在内的其他旋涂类应用。为应对未来光刻机产能的不断提升，该机型还可扩充至更多处理单元，同时实现在低占地面积下兼顾机台易维护性，有效提升机台维护效率。

　　芯源微是国内涂胶显影细分领域龙头，经过多年发展，产品已完整覆盖前道晶圆加工、后道先进封装、化合物半导体等多个领域，下游客户包括国内各大晶圆厂、封装厂及化合物半导体厂商。本次推出的前道浸没式高产能涂胶显影机新品将进一步丰富公司的产品结构，实现公司在前道晶圆加工环节28nm及以上工艺节点的全覆盖，并可持续向更高工艺等级迭代，巩固和提升公司在行业内的技术竞争优势，助力公司稳健可持续发展。