来源 :高端装备制造及材料2024-05-11
投资要点：
事件：公司发布2024年一季报。
2024Q1营收符合预期，在手订单充足
2024年一季度公司实现营收16.05亿元，同比+31%，环比-28%;归母净利润2.49亿元，同比-10%，环比-60%，扣非后归母净利润2.63亿元，同比+15%，环比-43%。净利润减少主要系非经常性损益亏损0.14亿元所致。2024Q1刻蚀设备营业收入13.35亿元，同比+64.05%，营收占比83.2%，刻蚀设备营收占比继续提升;MOCVD设备营业收入0.38亿元，同比-77.28%，营收占比2.4%。2024Q1末公司合同负债及预收款项合计11.69亿元，环比2023Q4末增长51.51%，主要系一季度刻蚀设备产量和发货量显著增长，公司收到较多发货款。2023年新签订单83.6亿元，同比+32.3%。在手订单充足，收入有望持续增长。
2024Q1毛利率保持稳定，费用率同比上升
2024Q1毛利率44.9%，同比-0.9pct;净利率15.5%，同比-7.0pct。期间费用率24.3%，同比+2.2%，管理、销售、财务、研发费用率为4.5%、8.5%、-2.1%、13.3%，同比0.0%、+0.5%、-0.9%、+2.6%，环比-1.7%、+1.6%、-1.0%、-0.8%。费用率增长主要系研发费用增加、公司业务扩张及人员增长所致。
国内半导体刻蚀设备龙头，薄膜沉积领域产品覆盖度不断提升公司为中国半导体刻蚀设备龙头，同时加速薄膜沉积设备、PECVD设备MOCVD设备布局。1)刻蚀设备：2023年公司CCP和ICP刻蚀设备在国内主要客户芯片生产线市占率大幅提升，逻辑和存储芯片制造中最关键刻蚀工艺的多款设备在客户产线展开验证。晶圆边缘Bevel刻蚀设备完成开发，即将进入客户验证， TSV硅通孔刻蚀设备应用在先进封装和MEMS器件生产。近日公司CCP刻蚀设备第3000台反应腔顺利付运国内一家先进的半导体芯片制造商。2)薄膜沉积设备：公司钨系列薄膜沉积产品可覆盖存储器件所有钨的应用，并已完成多家逻辑和存储客户对CVD/HAR/ ALD 钨设备的验证，取得了客户订单。公司将在2024年推出超过10款新型薄膜沉积设备，进一步扩大薄膜沉积领域产品覆盖度。3)MOCVD设备：公司 MOCVD 设备在蓝绿光 LED 生产线上占据绝对领先的市占率，受终端市场波动影响，2023年 MOCVD 设备销售额有所下滑。用于碳化硅功率器件外延生产的设备已于本期付运到客户端开展验证测试;制造Micro-LED应用的新型MOCVD设备也已在客户端进行验证测试。
盈利预测与估值预计公司2024-2026年营收为81.4、104.2、137.1亿元，同比增长30%、28%、32%，归母净利润19.8、24.0、32.6亿元，同比增长11%、21%、36%，对应PE为45、37、27倍，维持 “买入”评级。
风险提示：下游扩产进度不及预期、新品验证不及预期、市场竞争加剧风险
