【已投项目】中微公司：荣获上海市科技进步奖一等奖

　　根据《上海市科学技术奖励规定》(沪府令18号)，通过市科学技术奖评审委员会评审，市科学技术奖励委员会审定，经上海市人民政府批准，2022年度上海市科学技术奖日前隆重揭晓。中微公司“高精度介质等离子体刻蚀设备”项目荣获上海市科技进步奖一等奖。

　　

　　中微公司瞄准国际集成电路领域先进技术前沿，对等离子体刻蚀设备的技术路径、腔体结构设计、射频及匹配系统、关键部件的新材料开发等方面开展研究与创新，通过独特的等离子体聚焦技术、高低频脉冲射频动态控制、多区气体分布可调系统等的成功研发，独立自主开发出了高精度甚高频去耦合反应等离子体刻蚀设备。

　　中微公司高精度甚高频去耦合反应等离子体刻蚀设备可大幅提高刻蚀均匀度，有效降低刻蚀工艺中金属污染物和微颗粒的产生，在刻蚀结果一致性、重复性等多方面达到国际先进水平，实现了我国高精度等离子体介质刻蚀设备的自主研制和在国际先进芯片生产线的大规模产业化应用。

　　

　　尹志尧博士(右三)出席大会并作为获奖代表登台领奖

　　中微公司董事长兼总经理尹志尧博士表示，此次获奖是中微公司第二次荣获此项殊荣，这是对中微公司开发和提供的具有国际竞争力的微观加工高端设备的高度认可，也是对中微公司综合实力与创新能力的又一次肯定。未来，中微公司将持续践行和倡导“四个十大”的企业文化，努力实现技术进步并推动产业发展；秉承三维发展战略，不断推出有竞争力的高端设备产品，通过有机生长和外延扩展，实现高速、稳定、健康和安全的发展。