格林达：CF显影液是公司主要的负胶显影液

　　格林达(603931)董秘您好，公司的TMAH显影液用于正显影技术，据资料显示，20纳米以下制程芯片制作需使用负显影技术，请问公司在负显影技术使用的显影液方面有什么主力产品，与同行相比属于什么级别？

　　尊敬的投资者您好，显影液作为功能湿电子化学品，主要分为正胶和负胶显影液。广泛应用于显示面板、芯片制造和光伏行业。芯片制造流程与TFT-LCD阵列制程基本相同，均有成膜、涂胶、曝光、显影、蚀刻、光刻胶剥离等流程。在图形转移过程中，一般需要进行十几次光刻和蚀刻工艺，对湿电子化学品需求较大。根据IC线宽的不同，所需要的湿电子化学品等级亦有所差别。IC线宽越窄，集成度越高，对湿电子化学品要求也越高。目前行业中正胶显影液是主流产品，负胶产品也有一定的需求。CF显影液是公司主要的负胶显影液。谢谢您的关注。