瑞芯微取得自动曝光方法、存储介质及电子设备专利，该专利技术能提升自动曝光的收敛速度

　　据国家知识产权局公告，瑞芯微电子股份有限公司取得一项名为“自动曝光方法、存储介质及电子设备“，授权公告号CN114866705B，申请日期为2022年5月。

　　专利摘要显示，本公开提供自动曝光方法、存储介质及电子设备。所述自动曝光方法包括：获取由图像采集设备采集到的图像，所述图像包括至少两个目标区域，与各所述目标区域相对应的初始曝光参数均不相同；对所述图像进行处理以获取各所述目标区域的亮度值；以及根据所述图像的期望亮度值、各所述目标区域的亮度值及各所述目标区域的期望亮度值获取所述图像采集设备的曝光参数。所述自动曝光方法能够提升自动曝光的收敛速度。