瑞芯微取得自动曝光方法、装置、图像获取方法、介质及设备专利，该专利技术能够根据不同场景的动态范围获取相应的曝光量

　　据国家知识产权局公告，瑞芯微电子股份有限公司取得一项名为“自动曝光方法、装置、图像获取方法、介质及设备“，授权公告号CN114554106B，申请日期为2022年2月。

　　专利摘要显示，本公开提供一种自动曝光方法、装置、图像获取方法、介质及设备。所述自动曝光方法包括：获取多帧低动态范围图像中的第一图像和第二图像的曝光参数信息，其中所述第一图像为各帧所述低动态范围图像中曝光值最小的一帧图像，所述第二图像为各帧所述低动态范围图像中曝光值最大的一帧图像；获取所述第一图像和所述第二图像的亮度信息；根据所述第一图像和所述第二图像的所述亮度信息和所述曝光参数信息获取当前场景的曝光影响因子，所述曝光影响因子与当前场景的动态范围相关；以及根据所述曝光影响因子获取与各帧所述低动态范围图像相对应的曝光量。所述自动曝光方法能够根据不同场景的动态范围获取相应的曝光量。