来源 :上证e互动2023-11-13
凤凰光学(600071)日本佳能宣布推出新型光刻设备：FPA-1200NZ2C纳米压印(NIL)半导体制造设备！对ASML的EUV技术是一种不小的冲击，NIL（纳米压印）有其低成本、低功耗、精度高的优点，我们公司一直是日本佳能的核心供应商，请问该设备公司是否有供货？
投资者您好，公司不是光刻机的供应商，感谢您对公司的关注