思泉新材申请PECVD镀膜设备专利，能使膜料被柔和加热蒸发

　　2024年1月31日消息，据国家知识产权局公告，广东思泉新材料股份有限公司申请一项名为“PECVD镀膜设备“，公开号CN117467981A，申请日期为2023年12月。

　　专利摘要显示，本发明公开了一种PECVD镀膜设备，其具有能使膜料被柔和加热蒸发的优点。本发明的PECVD镀膜设备包括反应室、蒸发装置、正电极、抽真空装置和公自转转架系统，反应室具有一镀膜腔，公自转转架系统安装于镀膜腔，抽真空装置与镀膜腔连通，蒸发装置包括蒸发结构、进料接头和吹气管，蒸发结构内具有加热蒸发腔，加热蒸发腔与镀膜腔连通，进料接头用于输入液体状的膜料进加热蒸发腔，蒸发结构将位于加热蒸发腔的膜料蒸发成气雾状材料，吹气管伸入加热蒸发腔并往加热蒸发腔喷吹惰性气体，加热蒸发腔中的气雾状材料和惰性气体相互融合成混合气体，所形成的混合气体从加热蒸发腔流入到镀膜腔中。