广立微申请版图自动生成专利，提高了SRAM版图的生成效率

　　据国家知识产权局公告，杭州广立微电子股份有限公司申请一项名为“一种版图自动生成方法、装置、设备和可读存储介质“，公开号CN117272916A，申请日期为2023年11月。

　　专利摘要显示，本申请涉及一种版图自动生成方法、装置、设备和可读存储介质，其中，SRAM版图自动生成方法包括：获取存储单元模板、基极连接单元和边缘单元；获取生成信息，所述生成信息包括存储阵列的预设容量、驱动电路尺寸和基极距离；基于所述存储单元模板、所述基极连接单元和所述边缘单元，根据所述生成信息，生成目标版图。解决了传统的SRAM版图的生成方法无法满足自动产生符合需求的SRAM阵列的问题，提高了SRAM版图的生成效率。