来源 :深交所互动易2024-08-16
irm84264448问英诺激光(301021)据外媒报道，日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）设计了一种EUV光源光刻技术，其核心投影仪由两个反射镜组成，将EUV光源到晶圆的反射镜数量限制为总共4面，而在现在行业里，EUV光源需要通过10面反射镜最终到达晶圆，这使得EUV光刻机可采用更小的光源，功率不到传统EUV光刻机的十分之一，如果公司借鉴这种思路，是否能极大降低了我国开发EUV光源难度？毕竟如果不再追求大能量，那就只剩下高重频超快方向了
2024-08-03 10:41:25
英诺激光答irm84264448
尊敬的投资者，您好！公司将持续关注新技术走向。感谢您的分享和关注！
2024-08-16 18:49:31