来源 :深交所互动易2025-08-11
irm1347477问国林科技(300786)公司臭氧半导体设备对碳化硅器件的氧化沉积的作用？
2025-08-05 09:57:52
国林科技答irm1347477
尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括化学气相沉积、原子层薄膜沉积、晶圆清洗、污染物及光刻脚去除、表面处理、氧化物生成等工艺制程，目前被广泛应用于电子工业中。感谢您的关注。
2025-08-11 20:45:10