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国林科技(300786)内幕信息消息披露
 
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(深互动)国林科技:公司目前在薄膜沉积领域的臭氧专用设备,可以满足7纳米制程以下的半导体设备需求

http://www.chaguwang.cn  2024-04-15  国林科技内幕信息

来源 :深交所互动易2024-04-15

  470964220问国林科技(300786)董秘您好,多重曝光技术拉动薄膜沉积设备需求,公司目前的薄膜沉积领域的设备,是否可以满足7纳米制程以下的半导体设备需求?

  2024-04-12 17:00:19

  国林科技答470964220

  尊敬的投资者,您好。公司目前在薄膜沉积领域的臭氧专用设备,可以满足7纳米制程以下的半导体设备需求。感谢您的关注。

  2024-04-15 16:25:39

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