扬帆新材申请双光子光刻胶专利，实现二次雕刻

　　据国家知识产权局公告，浙江扬帆新材料股份有限公司申请一项名为“一种可二次雕刻的双光子光刻胶及其制备方法、应用“，公开号CN117742074A，申请日期为2023年12月。

　　专利摘要显示，本发明公开了一种可二次雕刻的双光子光刻胶及其制备方法、应用，属于高分子化学材料技术领域。本发明所提供的双光子光刻胶，包括二硫键丙烯酸酯、活性交联剂、长波长双光子引发剂、单光子光碱剂，以及作为休眠还原剂的二硫苏糖醇和作为溶剂的N,N二甲基甲酰胺，实现在首次飞秒加工增材制造的基础上，进一步利用另一束低能量连续405nm激光进行减材加工，在连续激光作用下，单光子光碱剂分解并释放碱性物质，将二硫苏糖醇去质子化，并还原打开二硫键丙烯酸酯中的二硫键，从而将已经交联固化的光刻胶分解，并在显影时去除，达成二次雕刻的目的。同时该双光子光刻胶可在碱性水溶液中快速、简易地去除，绿色环保，去胶率可达100％。