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南大光电(300346)内幕信息消息披露
 
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(深互动)南大光电:ArF光刻胶在193nm光源下有较高的透明性和抗刻蚀性等,可以广泛应用于各种高端IC芯片的生产制造

http://www.chaguwang.cn  2023-03-14  南大光电内幕信息

来源 :深交所互动易2023-03-14

  小土怪问南大光电(300346)请问老师,与国内其他企业例如徐州博康相比,ARF光刻胶有什么优势?

  2023-03-14 14:06:06

  南大光电答小土怪

  感谢您的关注!ArF光刻胶是先进集成电路芯片制造的关键材料,在193nm光源下有较高的透明性和抗刻蚀性等,可以广泛应用于各种高端IC芯片的生产制造。

  2023-03-14 16:28:01

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