来源 :势银膜链2022-04-07
半导体光刻胶作为光刻过程的关键耗材，光刻胶的质量和性能对光刻工艺有着重要影响，因其技术壁垒高而长期被海外大厂所主导，是半导体国产化的一道大坎。随着未来五年中国大陆晶圆厂的扩建趋势，光刻胶的市场需求也将持续增加。
从全球不同制程半导体光刻胶的市场份额占比来看，ArF和KrF等更高端的光刻胶分别占到了全球光刻胶市场较大份额，90-28nm的ArF光刻胶是全球光刻胶领域的主战场，也将成为我国光刻胶企业未来的主要竞争领域。
来源：南大光电官网
作为半导体光刻胶本土企业，南大光电也于近日透露，目前公司ArF光刻胶有小批量订单，尚未规模量产，市场拓展工作正在抓紧推进，并表示公司目前已建成25吨产能的ArF光刻胶生产线。此外，南大光电还表示，公司目前有两款产品在客户50nm和55nm技术节点的工艺端通过认证。
据势银膜链整理，南大光电的ArF光刻胶今年进展情况大致如下：
今年1月7日，南大光电表示，ArF光刻胶在多个技术节点同时认证，尚未涉及14nm技术节点。将加快验证进度和市场拓展力度，尽早实现规模量产；
1月29日，南大光电表示，ArF光刻胶2021年有少量出货，尚未规模量产；
2月11日，南大光电表示，ArF光刻胶尚在下游客户处认证，此外，上海微电子未使用公司光刻胶。
国家02专项等项目已获验收
加快实现光刻胶自主可控目标
在光刻胶及配套材料板块业务板块，南大光电的光刻胶技术研发始终坚持完全自主化路线，公司光刻胶研发中心具备了研制功能单体、功能树脂、光敏剂等光刻胶材料的能力，能够实现从光刻胶原材料到光刻胶产品及配套材料的全部自主化。
据南大光电2021年度报告显示——
在光刻胶研发方面，2017及2018年，公司分别获得国家02专项“高分辨率光刻胶与先进封装光刻胶产品关键技术研发”和“ArF光刻胶产品的开发和产业化”项目的正式立项。经过几年的组织建设和技术攻关，上述项目分别于2020年和2021年通过国家02专项专家组的验收。
在客户验证及量产方面，ArF光刻胶研发和产业化实现突破。公司自主研发的ArF光刻胶产品继2020年底在一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台上通过认证后，2021年5月又在一家逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破。其余90-28nm技术节点正在向多个客户平台认证中，同时也在开发光刻用底部抗反射涂层，同步推进认证中。
在光刻胶投建项目方面，南大光电于2021年5月表示将使用1.5亿元募集资金用于光刻胶项目。据南大光电2021年年报显示，ArF光刻胶产品开发与产业化项目目前为“已验收”状态。
针对半导体光刻胶的行业未来发展及自身规划，南大光电认为，尽管光刻胶市场保持了良好的增长趋势，但以ArF光刻胶为代表的高端光刻胶市场长期为国外巨头所垄断，一旦遇到贸易冲突或自然灾害，我国集成电路产业势必面临芯片企业短期内全面停产的严重不利局面。
因此，尽快实现高档光刻胶材料的全面国产化和产业化具有十分重要的战略意义和经济价值，自主可控需求愈发迫切。
Q1净利预计增长64.33%~94.85%
布局第三代半导体等领域
据南大光电2022年第一季度业绩预告显示，今年一季度，公司预计实现归属于上市公司股东的净利润7,000~8,300万元，较上年同比增长64.33%~94.85%；预计实现扣非净利润5,400~6,700万元，较上年同比增长67.57%~107.92%。
南大光电表示，今年Q1，公司主营收入和归母净利润继续保持高速增长。其中，先进制程28nm等前驱体材料技术攻关及产业化进程加快，销售规模快速增长，成为公司新的业绩增长点。