南大光电光刻胶通过国家验收，可用于中芯国际7nm工艺

　　南大光电光刻胶通过国家验收，可用于中芯国际7nm工艺，这就意味着我国将实现高端芯片的自主化，这是一个令人振奋的好消息。

　　接二连三的制裁让自主化意识觉醒

　　由于我国进入工业化的时间相对较晚，所以在很多领域与国外先进技术存在极大的差距，所以我国的大部分企业不愿意使用国内企业生产制造出来的落后产品，宁愿花高价去国外租或者买先进的技术和设备。

　　

　　久而久之，我国的这些企业就对国外的技术和设备产生了极大的依赖性，越来越离不开国外的技术和设备，所以这就很容易被国外的企业进行限制，这就像是一颗定时炸弹，随之都可以引爆。

　　我国的中兴和华为就是其中的前车之鉴，好在这两家企业家大业也大，虽说遭受了极大的损失，但是还能坚强的存活下来，甚至发展的比以前还要强盛，这就是得益于自主化意识的觉醒。

　　

　　正是国外接二连三的制裁，让国内大部分企业对于国外企业美好的幻想破灭了，自主化意识在国内大部分企业中普遍觉醒，所以国内便是掀起一阵加大资金投入，联合高校与科研机构进行自主研发的热潮。

　　

　　在这种热情高涨的情况下，众多科研科员就像是得到了Buff加成，实力超常爆发，于是乎，一项接一项取得重大历史性突破的科研成果问世，似刻蚀机以及光刻机这等芯片半导体行业最为重要的机器设备都成功研制出来了，还有什么是我国不能无法攻克的？

　　

　　南大光电实现对光刻胶的突破

　　在众人为光刻机以及刻蚀机等尖端设备实现国产化和量产化欢呼雀跃之时，芯片半导体的另一项细分领域又宣告历史性的突破，这就是光刻胶领域，与光刻机虽只有一字之差，但是其重要性可以说是不输于光刻机。

　　

　　光刻胶作为生产制造芯片时不可或缺的材料，是可以直接决定芯片的良品率的。然而，如此重要的芯片材料，却是长期被美国和日本的企业垄断，以至于我国长期以来只能依赖进口。

　　为了摆脱对国外企业的依赖，打破国外的垄断，我国光刻胶领域的企业纷纷加大对光刻胶的研究开发，力争取得实质性的进展。经过一段时间的艰苦研究，终于实现了这个远大的目标。其中的南大光大就是这些企业的佼佼者，在光刻胶领域所取得的成就也是最高的，此次实现对光刻胶领域的突破就是南大光电的功劳。

　　

　　南大光电研发生产的ArF光刻胶，已经通过国家专家组的验收，而且已经被证实，可适用于7nm制程工艺的芯片，这一重大突破将会对我国实现高端芯片产生不可忽视的作用，届时我国将可以达到芯片的自给自足的目标。

　　中芯国际的福音来了

　　中芯国际，如今在我国几乎可以算的上是芯片制造领域的龙头企业，其实力也是在最近几年来得到了极大的增强，这主要是由于全球范围内芯片半导体行业进入高速发展的黄金时期，以及我国对于芯片半导体领域的空前重视与扶持。

　　

　　如今的中芯国际在芯片的制程工艺上取得了较大的进展，从28nm到14nm，再到即将突破的7nm，如果中芯国际成功了，那么中芯国际将会成为全球第三家掌握7nm芯片制程工艺的企业。当前全球只有三星和台积电掌握了这个技术，就连美国的英特尔都没有实现突破，据悉是突破在即，有望在明年实现。

　　

　　上海微电子已经将国产光刻机进行了量产交付，而南大光电也已经实现光刻胶的突破，那么就有希望打造出一条完全自主化的成熟工艺生产线，而且有专家预测，明年有望实现14nm芯片生产线的完全自主化，7nm芯片生产线的自主化也是极有可能实现的。

　　

　　写在最后

　　中国的芯片半导体领域已经正在崛起，而且速度极为迅猛，是难以被阻止的，相信7nm及其以下的高端芯片的制程工艺也会在不久之后实现突破，我国的芯片半导体行业的发展壮大还需要国内的各大企业齐心协力，只有这样，才能让我国在全球芯片半导体领域掌握更多的话语权。大家对此怎么看？欢迎留言评论！