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四方达(300179)内幕信息消息披露
 
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(深互动)四方达:目前公司研发项目未涉及您所述CMP抛光材料、CMP抛光液领域

http://www.chaguwang.cn  2021-06-29  四方达内幕信息

来源 :深交所互动易2021-06-29

  cninfo718561问四方达(300179)请问董秘:贵公司研发是否涉足(CMP抛光材料、CMP抛光液这个领域)、(高效修磨轨道板金刚石砂轮和修磨轨道树脂砂轮)、

  2021-06-18 19:34:50

  四方达答cninfo718561

  您好,目前公司研发项目未涉及您所述领域,感谢您对公司的关注!

  2021-06-29 17:17:58

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