华中数控申请抛光机打磨头压力控制专利，达到精准稳定可靠的效果

　　据国家知识产权局公告，武汉华中数控股份有限公司申请一项名为“一种与轨迹相关联的抛光机打磨头压力控制方法及系统“，公开号CN117130323A，申请日期为2023年8月。

　　专利摘要显示，本发明公开了一种与轨迹相关联的抛光机打磨头压力控制方法及系统，该方法不会大幅度提高数控系统软件负载，并且不需要借助其他昂贵的设备。仅需根据加工轨迹G代码和关键点压力值，在数控系统内部自动进行压力与轨迹相关联的规划，再通过压力传感器形成闭环的压力PID控制，实现压力与轨迹相关联的连续性变化。该方法和系统达到了精准、稳定可靠的效果，且方便调试和优化，具有应用范围广、低成本、调试简单等优势。