宇晶股份申请双工位四周抛光机专利，提高抛光效率

　　2024年2月26日消息，据国家知识产权局公告，湖南宇晶机器股份有限公司申请一项名为“一种双工位四周抛光机“，公开号CN117584021A，申请日期为2023年12月。

　　专利摘要显示，一种双工位四周抛光机，包括总机架、设置在总机架上的两下主轴组件、两上主轴组件、两机头总成，总机架包括机架机座、设置在机架机座上的操作室、设置在操作室上的顶板、设置在顶板上的防护罩以及设置在防护罩上的电控箱，两下主轴组件设置在机架机座上，两上主轴组件设置在顶板上并与两下主轴组件相对应，两机头总成设置在顶板上；上主轴组件包括上主轴安装板、设置在上主轴安装板下方的上轴承座、套设在上轴承座上的上防水套、设置在上轴承座内的上主轴，上主轴下端延伸出上轴承座连接有上中心轴夹具，上主轴上端延伸出上轴承座连接有旋紧螺母；机头总成包括设置在顶板上的滑轨组，滑轨组上设有以滑轨组纵向中心线对称的机头总成组件。