三利谱获得发明专利授权：“扩散膜及其制备方法与应用”

　　数据显示三利谱（002876）新获得一项发明专利授权，专利名为“扩散膜及其制备方法与应用”，专利申请号为CN202211192727.5，授权日为2026年4月7日。

　　专利摘要：本申请涉及光学薄膜技术领域，尤其涉及一种扩散膜及其制备方法与应用，提供了一种扩散膜，该扩散膜包括基材以及设置在所述基材任一表面的扩散薄膜，其中，所述扩散薄膜由以下质量百分含量的组分制备而成：扩散粒子0.5％～10％，溶剂90～99.5％。得到的扩散膜具有高雾度，高清晰度，高透光率的特性；提供的配方简单，减少了其他组分的使用，成本低，有利于扩散粒子的分散，能够达到理想的光扩散效果，有利于广泛使用。

　　今年以来三利谱新获得专利授权1个，与去年同期持平。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了2.08亿元，同比增11.97%。

　　通过大数据分析，深圳市三利谱光电科技股份有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目17次；财产线索方面有商标信息22条，专利信息157条，著作权信息34条；此外企业还拥有行政许可39个。