来源 :国星光电2021-12-24
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近日，科技部高技术研究发展中心公示了国家重点研发计划“新型显示与战略性电子材料”重点专项2021年度公开指南拟立项项目公示清单，由国星光电牵头，联合厦门乾照光电股份有限公司、京东方科技集团股份有限公司、广东省科学院半导体研究所、华南理工大学等九家单位共同申报的“高亮度高对比度全彩Micro-LED 显示关键技术研究”项目成功获批。
挑战难点
加快Micro-LED核心关键技术攻关
“新型显示与战略性电子材料”重点专项的申报旨在以国家产业安全和重大工程建设需求为导向，突破新型显示产业应用关键核心技术，打通创新链，突破战略性电子材料制备与应用各环节的共性关键技术，提高我国信息、能源、交通、高端装备等领域核心电子材料和器件的自主可控能力。
此次申报的项目是国星光电“十四五”以来首个牵头获批的国家级重点研发计划项目，其以Micro-LED 显示技术发展为导向，从Micro-LED 显示的核心关键材料与关键封装技术切入，最终研制出高性能Micro-LED全彩显示屏，可加快填补国内超高清领域的技术空白，让技术创新成果真正服务大众，引领超高清显示产业健康、快速、高质量发展。
领先行业
勇当超高清显示领域排头兵
近年，超高清显示已然成为国家重点布局的战略产业，先后印发《“十四五”规划纲要》、《超高清视频产业发展行动计划（2019-2022 年）》等政策大力推进该产业的发展。
作为LED封装行业龙头，国星光电一直在超高清显示领域勇立潮头，早在2015年，国星光电便开始布局Mini-LED和Micro-LED技术；2018年，国星光电成立了国内首家“MicroMini LED研究中心”，聚集产学研创新力量，积极储备前瞻技术，为超高清显示发展奠定坚实的技术基础；2020年，国星光电首款Micro-LED nStarⅠ——2.7英寸Micro-LED透明全彩显示模组重磅上市，初步实现了250PPI以上红/绿/蓝单色转移键合点亮，进一步推动超高清微显示发展；今年，国星光电在高分辨率Micro-LED全彩显示方面再获突破，成功开发出高一致性像素化量子点色转换彩膜制备技术，有效解决Micro-LED红光芯片良率低、光效低、巨量转移难度高的技术痛点，为Micro-LED产业化进程再度注入新动能。为让创新成果得到更好的保护，国星光电不断加大知识产权保护力度，截至目前，公司在Micro-LED领域已申请相关专利30项，申请PCT3项，其中发明专利24项、实用新型专利6项。
今年，公司成功突破量子点色转换彩膜关键技术
接下来，国星光电将继续深入贯彻创新驱动发展战略，积极引导和推动我国超高清显示及配套产业发展，致力实现Micro-LED国产化的跨越式发展，为广晟集团奋进世界500强注入强劲动能，为国家超高清显示产业贡献更大力量！