来源 :深交所互动易2021-08-31
cninfo832170问北京科锐(002350)请问董秘低压化学气相沉积LPCVD等产品设备的用途?现在是否已量产?
2021-08-30 20:49:01
北京科锐答cninfo832170
您好！低压化学气相沉积（LPCVD）设备是指在加热和低压环境下，利用气态原料在固体衬底表面发生化学反应，反应产物在衬底表面沉积形成薄膜的设备。LPCVD设备是在常压化学气相沉积（APCVD）的基础上，为了提高薄膜质量，改善膜厚和电阻率等特性参数的分布均匀性，以及提高生产效率而发展起来的，其主要特征是在低压热场环境下，工艺气体在圆片衬底表面发生化学反应，反应产物在衬底表面沉积形成薄膜。LPCVD设备在优质薄膜的制备方面具有优势，可用于制备氧化硅、氮化硅、多晶硅、碳化硅、氨化镓和石墨烯等薄膜。公司控股子公司基于TOPCon技术开发出的低压化学气相沉积LPCVD设备已经量产。
2021-08-31 15:13:22